삼성전자의 평택3캠퍼스(P3) 착공이 임박했다. 삼성전자는 이달 말 공사 착공을 시작, 내년 4월까지 공사를 끝내고 반도체 장비를 도입, 2023년부터 양산체제에 들어간다고 밝혔다. 반도체업계에 따르면 이번에 생산되는 제품은 7세대 적층(V) 낸드프래시와 극자외선(EUV) 노광장비 기반10나노(nm 1nm은 10억분의1m)급 D램으로 알려지고 있다.

사실 평택 P3은 지난해 9월부터 기초 터닦기와 상부 골조공사가 진행 중이었다. 하지만 삼성전자는 기초공사를 긑낸 뒤 외부건물을 올리는 시점을 착공으로 규정하고 있다. 평택 P3은 최소 30조원에서 최대 50조원이  투자되는 규모로 국내최대 반도체 생산기지가 될 전망이다.

삼성전자가 P3을 서두르게 된데는 경쟁사들의 추격 때문이다. 미국 마이크론은 지난해 176단 7세대 V낸드를 세계 최초로 양산한다고 발표하며 삼성전자를 긴장시켰고, SK하이닉스 역시 이천 M16 신공장을 서두르고 EUV D램을 생산할 것으로 알려졌기 때문이다.

삼성전자는 이번 P3뿐만 아니라 공장3기를 더 지을 계획인 것으로 알려졌다. 2025년가지 세 곳을 더 착공하기로 하고 총 100조원 규모의 자금을 더 투입할 것으로 보인다. 이재용 부회장도 지난 1월초 평택 P3를 둘러보고 관계자들을 격려하는 등 P3에 깊은 관심을 보여온 것으로 전해졌다. 

P1과 P2는 이미 30조원 이상 대규모 투자가 집행됐고 P2에서 직접 고용하는 인력은 약 4000명이며 협력사 인력과 건설인력을 포함하면 약 3만명 이상의 고용창출이 발생한 것으로 알려졌다.

                                                현재 생산중인 제품

P2의 파운드리 라인과 낸드 라인은 원래 올해 하반기 본가동할 예정이었다. 하지만 삼성전자는 가동 일정을 최대한 당겨 상반기 중 완전한 양산을 시작하기로 최근 방침을 바꿨다.

평택 P2 라인의 조기 가동은 전 세계적 반도체 공급 대란과 반도체 슈퍼사이클에 대응하기 위한 조치다. 올해 1분기 삼성전자의 미국 텍사스주 오스틴 파운드리 공장이 역대급 한파·폭설로 한 달 반가량 가동을 멈춰서며 전 세계 스마트폰 업체에 비상이 걸렸다.

삼성전자는 현재까지 별도의 P3 착공 행사를 계획하고 있지는 않은 것으로 알려졌다. 삼성전자는 당초 P3 착공 행사를 준비하고 대규모 투자 계획도 발표할 예정이었지만 이 부회장이 국정농단 재판 파기 환송심에서 실형이 확정, 수감되며 계획이 무산됐다.

한편 싱당수 국민들은 위기에 처한 반도체 분야의 경쟁력 확보와 백신 확보를 위해 이 부회장의 사면을 요구하는 목소리를 높이고 있다. 일각에서는 "사법정의가 실현되는 것이 법치국가의 마땅한 도리이고 규범이지만 국가경쟁력 제고와 국민의 안위를 도모할 수 있도록 정부가 포용과 화합의 큰 결단을 해주길 건의한다"고 말했다.